キヤノンが挑むナノインプリントでの半導体製造、Canon EXPO 2023で見せた本気の姿勢キヤノンは10月19日、20日にかけて開催しているプライベートイベント「Canon EXPO 2023」にて、10月13日に商用化を発表したばかり...

キヤノン株式会社は、独自の「ナノインプリント」(NIL)技術を採用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売した。半導体製造でもっとも重要となるのが、回路パターンをウェハに転写する露光装置だが、ウェハ上に塗...

東芝は2017年度にも、キヤノンと共同開発した次世代半導体露光装置をNAND型フラッシュメモリーの量産ラインに採用することを決めた。「ナノインプリント露光(用語参照)」技術を使った装置で、量産での利用は電機業界...

東芝は2月5日、SK Hynixと次世代半導体露光技術であるナノインプリントリソグラフィ(NIL)の開発を加速させるため、2014年12月に基本合意した共同開発について、正式契約を締結したと発表した。NILは、メモリのさらな...

東芝とSKハイニックスが、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)技術で共同開発を開始する。NILは、回路パターンが掘られた型(モールド)をシリコンウエハーに直接押し当てて転写するもので、より微細な加工ができると期...