東大など、直径1nmの極細半導体ナノチューブの合成法を開発東京大学(東大)、産業技術総合研究所(産総研)、筑波大学、大阪大学(阪大)、科学技術振興機構(JST)の5者は6月4日、ナノメートルスケールの空間を利用し、直径およそ1nmの極めて微細な「二硫化モリブデン」(MoS2)の半導体ナノチューブの合成に成功し、その詳細な観察と分析から、原子レベルで整った構造と、直径に応じて「バンドギャップ」が変化することを実証したと共同で発表した。

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